Ultrafini kvarcni prah visoke čistoće svojevrsni je materijal u prahu napravljen od visokokvalitetnog prirodnog kvarca posebnim postupkom, koji ima izuzetno visoku raspodjelu čistoće i kontroliranog veličine čestica. Ovaj se materijal široko koristi u mnogim visokotehnološkim poljima zbog izvrsne kemijske stabilnosti, kiseline i alkalne otpornosti, velike specifične površine, razvijene prazne strukture, visoke otpornosti na temperaturu i dobre izolacije.
Sadržaj visoke čistoće, silika (SiO2) može doseći više od 99,99%.
Kontrola veličine čestica, tipična veličina čestica D50 u rasponu od 3-10 mikrona.
Blina veća od 94, s vrlo dobrom bojom.
Toplinska vodljivost je bolja od ostalih silikonskih praha.
Kemijska stabilnost, otpornost na kiselinu i alkaliju.
Ukupni sadržaj nečistoća kontrolira se unutar 50 pppm, koji pripada domaćoj vodećoj razini i međunarodnom naprednom
.
Polje prijave:
Elektronski materijali za pakiranje: koristi se u pakiranju integriranog kruga poluvodiča, pružajući podršku, zaštitu, disipaciju topline, funkcije izolacije i međusobne veze.
Elektronička tinta: koristi se u industriji elektroničkog tiska.
Optička vlakna: Koristi se za proizvodnju optičkih vlakana.
Precizna keramika: Koristi se za proizvodnju keramike visokih performansi.
Optika: za precizno mljevenje.
Silikonska guma: Kao punilo poboljšajte otpornost na habanje i otpornost na vremenske uvjete.
Optičko staklo: za proizvodnju visokokvalitetnog optičkog stakla.
Industrijska keramika: koristi se za proizvodnju keramičkih proizvoda visokih performansi.
Način pripreme:
Fizičko pročišćavanje: uključujući pranje, pročišćavanje, magnetsko odvajanje i flotaciju.
Kemijsko pročišćavanje: Uporaba kiselina (poput klorovodične kiseline, sumporne kiseline, dušične kiseline, hidrofluorske kiseline i oksalna kiselina) za kiseli ispiranje za uklanjanje nečistoća.
Ultrafino mljevenje: upotreba mlina za miješanje, mlin za vibracije, mljevenje zraka i druga oprema za ultrafino mljevenje.
Proces spherifikacije: uključujući metodu taljenja plazme visoke frekvencije, metodu taljenja DC u plazmi, metodu luka itd. Za proizvodnju sfernog kvarcnog praha.
Tehnologija obrade:
Kvarcni prah kroz magnetsko odvajanje, flotaciju.
Ultrafino mljevenje do razine mikrona.
Kisenje uklanja nečistoće.
Čišćenje uklanjanja kiseline.
Pritisnite filtraciju dehidracija.
Osušiti.
Nakon prekida da biste dobili gotov proizvod.
Tehnologija pripreme ultra-finog kvarcnog praha visoke čistoće i dalje se poboljšava, posebno u primjeni elektroničkih ambalažnih materijala, a zahtjevi za punila postaju sve veći i viši, ne samo da zahtijevaju ultra-fine i visoku čistoću, već zahtijevaju i sferičnost za poboljšanje performansi ambalažnih materijala. S razvojem industrije elektronike, potražnja za sfernim tržištem kvarcnog praha također raste
.
Projekt
Srodni pokazatelji
Objasniti
Čistoća
SIO2 sadržaj
Neobavezno u roku od 98% -99,9%
Ionska nečistoća
Na+, C1 itd
Može biti nizak od 3ppm ili ispod
Raspodjela veličine čestica
D50
Neobavezno unutar 0,5UM-20UM
D100
Može biti nizak od 10UM ili manje
Raspodjela veličine čestica
Prilagodbe se mogu izvršiti na temelju tipičnih distribucija prema zahtjevima kupca, uključujući multi-modalne distribucije
Karakteristike izgleda
Bjelina, transparentnost itd
Blina se može odabrati između 60-98 stupnjeva, pružajući visoku distribuciju proizvoda za transparentnost
Površinske karakteristike
Hidrofobnost, vrijednost apsorpcije ulja itd
Različiti agensi za liječenje mogu se odabrati prema zahtjevima kupaca, a dostupna je fleksibilna prilagodba
Projekt
Jedinica
Tipične vrijednosti
Izgled
/
Bijeli prah
Gustoća
kg/m³
2.65x103
Mohsova tvrdoća
/
2
Dielektrična konstanta
er
4.65
Dielektrični gubitak
lgΔ
0.0018
Linearni koeficijent ekspanzije
1/k
14x10-6
Toplinska vodljivost
W/k · m
12.6
Indeks loma
/
1.54
Značajke:
Sadržaj visoke čistoće, silika (SiO2) može doseći više od 99,99%.
Kontrola veličine čestica, tipična veličina čestica D50 u rasponu od 3-10 mikrona.
Blina veća od 94, s vrlo dobrom bojom.
Toplinska vodljivost je bolja od ostalih silikonskih praha.
Kemijska stabilnost, otpornost na kiselinu i alkaliju.
Ukupni sadržaj nečistoća kontrolira se unutar 50 pppm, koji pripada domaćoj vodećoj razini i međunarodnom naprednom
.
Polje prijave:
Elektronski materijali za pakiranje: koristi se u pakiranju integriranog kruga poluvodiča, pružajući podršku, zaštitu, disipaciju topline, funkcije izolacije i međusobne veze.
Elektronička tinta: koristi se u industriji elektroničkog tiska.
Optička vlakna: Koristi se za proizvodnju optičkih vlakana.
Precizna keramika: Koristi se za proizvodnju keramike visokih performansi.
Optika: za precizno mljevenje.
Silikonska guma: Kao punilo poboljšajte otpornost na habanje i otpornost na vremenske uvjete.
Optičko staklo: za proizvodnju visokokvalitetnog optičkog stakla.
Industrijska keramika: koristi se za proizvodnju keramičkih proizvoda visokih performansi.
Način pripreme:
Fizičko pročišćavanje: uključujući pranje, pročišćavanje, magnetsko odvajanje i flotaciju.
Kemijsko pročišćavanje: Uporaba kiselina (poput klorovodične kiseline, sumporne kiseline, dušične kiseline, hidrofluorske kiseline i oksalna kiselina) za kiseli ispiranje za uklanjanje nečistoća.
Ultrafino mljevenje: upotreba mlina za miješanje, mlin za vibracije, mljevenje zraka i druga oprema za ultrafino mljevenje.
Proces spherifikacije: uključujući metodu taljenja plazme visoke frekvencije, metodu taljenja DC u plazmi, metodu luka itd. Za proizvodnju sfernog kvarcnog praha.
Tehnologija obrade:
Kvarcni prah kroz magnetsko odvajanje, flotaciju.
Ultrafino mljevenje do razine mikrona.
Kisenje uklanja nečistoće.
Čišćenje uklanjanja kiseline.
Pritisnite filtraciju dehidracija.
Osušiti.
Nakon prekida da biste dobili gotov proizvod.
Tehnologija pripreme ultra-finog kvarcnog praha visoke čistoće i dalje se poboljšava, posebno u primjeni elektroničkih ambalažnih materijala, a zahtjevi za punila postaju sve veći i viši, ne samo da zahtijevaju ultra-fine i visoku čistoću, već zahtijevaju i sferičnost za poboljšanje performansi ambalažnih materijala. S razvojem industrije elektronike, potražnja za sfernim tržištem kvarcnog praha također raste
.
Projekt
Srodni pokazatelji
Objasniti
Čistoća
SIO2 sadržaj
Neobavezno u roku od 98% -99,9%
Ionska nečistoća
Na+, C1 itd
Može biti nizak od 3ppm ili ispod
Raspodjela veličine čestica
D50
Neobavezno unutar 0,5UM-20UM
D100
Može biti nizak od 10UM ili manje
Raspodjela veličine čestica
Prilagodbe se mogu izvršiti na temelju tipičnih distribucija prema zahtjevima kupca, uključujući multi-modalne distribucije
Karakteristike izgleda
Bjelina, transparentnost itd
Blina se može odabrati između 60-98 stupnjeva, pružajući visoku distribuciju proizvoda za transparentnost
Površinske karakteristike
Hidrofobnost, vrijednost apsorpcije ulja itd
Različiti agensi za liječenje mogu se odabrati prema zahtjevima kupaca, a dostupna je fleksibilna prilagodba
