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結晶性シリカパウダー
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結晶性シリカパウダー

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高純度ウルトラフィンクォーツパウダーは、非常に高い純度と制御可能な粒子サイズ分布を持つ特別なプロセスで高品質の天然石英で作られた一種の粉末材料です。この材料は、その優れた化学的安定性、酸およびアルカリ抵抗性、大きな特定の表面積、発達したボイド構造、高温抵抗、良好な断熱のため、多くのハイテク分野で広く使用されています。
可用性:
数量:

特徴:

高純度、シリカ(SIO2)含有量は99.99%以上に達する可能性があります。

粒子サイズ制御、3〜10ミクロンの範囲の典型的な粒子サイズD50。

94を超える白さ、非常に良い色。

熱伝導率は、他のシリコンパウダーよりも優れています。

化学的安定性、酸、アルカリ抵抗性。

不純物の総内容は50ppm以内に制御され、これは国内の主要レベルと国際高度な高度に属します

.

アプリケーションフィールド:

電子包装材料:半導体統合回路パッケージで使用され、サポート、保護、熱散逸、断熱、および相互接続機能を提供します。

電子インク:電子印刷業界で使用。

光ファイバー:光ファイバの製造に使用します。

精密セラミック:高性能セラミックの製造に使用。

光学:精密粉砕用。

シリコンゴム:フィラーとして、耐摩耗性と気象抵抗を改善します。

光学ガラス:高品質の光学ガラスの製造用。

Industrial Ceramics:高性能セラミック製品の製造に使用されます。

準備方法:

物理的浄化:洗浄、スクラビング、磁気分離、浮選など。

化学浄化:酸浸出に不純物を除去するための酸浸出に酸性塩(塩酸、硫酸、硝酸、硝酸、加水酸、シュウ酸など)の使用。

ウルトラフィン研削:攪拌ミル、振動工場、空気研削、およびウルトラフィン研削のためのその他の機器の使用。

球面化プロセス:高周波プラズマ融解方法、DCプラズマ融解方法、ARC法などを含み、球状の石英パウダーを生成します。

処理技術:

磁気分離、浮選によるクォーツパウダー。

ミクロンレベルへのウルトラフィン研削。

漬物は不純物を取り除きます。

酸除去洗浄。

ろ過脱水を押します。

ドライ。

完成品を取得するために別れた後。

特に電子パッケージング材料の適用において、高純度のウルトラファインクォーツパウダーの準備技術は改善され続けており、充填剤の要件は、超微調整と高純度を必要とするだけでなく、パッケージング材料のパフォーマンスを改善するために球形を必要とするだけでなく、ますます高くなり続けています。エレクトロニクス業界の発展に伴い、球状の石英パウダー市場の需要も高まっています

.

プロジェクト

関連インジケーター

説明する

純度

SIO2コンテンツ

98%-99.9%以内のオプション

イオン不純物

Na+、C1など

3ppm以下の低い場合があります

粒子サイズ分布

D50

0.5um-20um以内にオプション

D100

10um以下の低い場合があります

粒子サイズ分布

マルチモーダル分布を含む顧客の要件に応じて、典型的な分布に基づいて調整を行うことができます

外観の特性

白さ、透明性など

白さは60〜98度の間で選択でき、透明性の高い製品分布を提供します
表面特性 疎水性、オイル吸収値など 顧客の要件に従ってさまざまな治療剤を選択でき、柔軟なカスタマイズが利用可能です


プロジェクト

ユニット

典型的な値

外観

/ 白い粉

密度

kg/m³ 2.65x103

Mohsの硬度

/ 2

誘電率

er 4.65

誘電損失

LGδ 0.0018

線形膨張係数

1/k 14x10-6

熱伝導率

w/k・m 12.6
屈折率 / 1.54


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