Ultrafien -kwartspoeier met 'n hoë suiwerheid is 'n soort poeiermateriaal van natuurlike kwarts van hoë gehalte deur 'n spesiale proses, wat 'n buitengewone hoë suiwerheid en beheerbare deeltjiegrootte -verdeling het. Hierdie materiaal word wyd gebruik in baie hoë-tegnologie velde vanweë die uitstekende chemiese stabiliteit, suur- en alkali-weerstand, groot spesifieke oppervlakte, ontwikkelde leemte-struktuur, hoë temperatuurweerstand en goeie isolasie.
Hoë suiwerheid, silika (SiO2) -inhoud kan meer as 99,99%bereik.
Deeltjiegrootte-beheer, tipiese deeltjiegrootte D50 in die omgewing van 3-10 mikron.
Witheid groter as 94, met 'n baie goeie kleur.
Die termiese geleidingsvermoë is beter as ander silikonpoeier.
Chemiese stabiliteit, suur- en alkali -weerstand.
Die totale inhoud van onsuiwerhede word binne 50 ppm beheer, wat tot die binnelandse voorste vlak en die International Advanced behoort
.
Toepassingsveld:
Elektroniese verpakkingsmateriaal: gebruik in halfgeleier -geïntegreerde kringverpakking, bied ondersteuning, beskerming, hitteverspreiding, isolasie en interkonneksiefunksies.
Elektroniese ink: gebruik in die elektroniese drukbedryf.
Optiese vesel: word gebruik om optiese vesel te vervaardig.
Precision Ceramics: word gebruik om keramiek vir hoë werkverrigting te vervaardig.
Optika: vir presisie -maal.
Silikoonrubber: Verbeter die slytweerstand en weerweerstand as vulmiddel.
Optiese glas: vir die vervaardiging van optiese glas op hoë graad.
Industriële keramiek: word gebruik om keramiekprodukte met hoë werkverrigting te vervaardig.
Voorbereidingsmetode:
Fisiese suiwering: insluitend was, skrop, magnetiese skeiding en flotasie.
Chemiese suiwering: die gebruik van sure (soos soutsuur, swaelsuur, salpetersuur, hidrofluoriensuur en oksaalsuur) vir suur loging om onsuiwerhede te verwyder.
Ultrafiene slyp: die gebruik van roerfabriek, vibrasiefabriek, lugmaal en ander toerusting vir ultrafienmaal.
Sferifiseringsproses: insluitend hoëfrekwensie plasma -smeltmetode, GS -plasmamemetmetode, ARC -metode, ens., Om sferiese kwartspoeier te produseer.
Verwerkingstegnologie:
Kwartspoeier deur magnetiese skeiding, flotasie.
Ultrafien maal tot mikronvlak.
Pickling verwyder onsuiwerhede.
Skoonmaak van suur verwyder.
Druk op filtrasie -uitdroging.
Droog.
Nadat u opgebreek het om die finale produk te kry.
Die voorbereidingstegnologie van ultra-fyn kwartspoeier met 'n hoë suiwerheid verbeter steeds, veral in die toepassing van elektroniese verpakkingsmateriaal, en die vereistes vir vullers word hoër en hoër, wat nie net ultra-fyn en hoë suiwerheid benodig nie, maar ook sferisiteit vereis om die werkverrigting van verpakkingsmateriaal te verbeter. Met die ontwikkeling van die elektroniese industrie groei die vraag na sferiese kwartspoeiermark ook
.
Projek
Verwante aanwysers
Verduidelik
Suiwerheid
SiO2 -inhoud
Opsioneel binne 98% -99,9%
Ion onreinheid
Na+, C1, ens
Kan so laag wees as 3ppm of onder
Deeltjiegrootte verspreiding
D50
Opsioneel binne 0.5um-20um
D100
Kan so laag as 10um of minder wees
Deeltjiegrootte verspreiding
Aanpassings kan aangebring word op grond van tipiese verspreidings volgens klante se vereistes, insluitend multimodale verspreidings
Voorkomskenmerke
Witheid, deursigtigheid, ens
Witheid kan tussen 60-98 grade gekies word, wat die verspreiding van 'n hoë deursigtigheid bied
Oppervlakkenmerke
Hidrofobisiteit, olie -absorpsiewaarde, ens
Verskillende behandelingsagente kan volgens die vereistes van kliënte gekies word, en buigsame aanpassing is beskikbaar
Projek
Eenheid
Tipiese waardes
Verskyning
/
Wit poeier
Digtheid
kg/m³
2.65x103
Mohs Hardheid
/
2
Diëlektriese konstante
ER
4.65
Diëlektriese verlies
LGδ
0.0018
Lineêre uitbreidingskoëffisiënt
1/k
14x10-6
Termiese geleidingsvermoë
W/k · m
12.6
Brekingsindeks
/
1.54
Kenmerke:
Hoë suiwerheid, silika (SiO2) -inhoud kan meer as 99,99%bereik.
Deeltjiegrootte-beheer, tipiese deeltjiegrootte D50 in die omgewing van 3-10 mikron.
Witheid groter as 94, met 'n baie goeie kleur.
Die termiese geleidingsvermoë is beter as ander silikonpoeier.
Chemiese stabiliteit, suur- en alkali -weerstand.
Die totale inhoud van onsuiwerhede word binne 50 ppm beheer, wat tot die binnelandse voorste vlak en die International Advanced behoort
.
Toepassingsveld:
Elektroniese verpakkingsmateriaal: gebruik in halfgeleier -geïntegreerde kringverpakking, bied ondersteuning, beskerming, hitteverspreiding, isolasie en interkonneksiefunksies.
Elektroniese ink: gebruik in die elektroniese drukbedryf.
Optiese vesel: word gebruik om optiese vesel te vervaardig.
Precision Ceramics: word gebruik om keramiek vir hoë werkverrigting te vervaardig.
Optika: vir presisie -maal.
Silikoonrubber: Verbeter die slytweerstand en weerweerstand as vulmiddel.
Optiese glas: vir die vervaardiging van optiese glas op hoë graad.
Industriële keramiek: word gebruik om keramiekprodukte met hoë werkverrigting te vervaardig.
Voorbereidingsmetode:
Fisiese suiwering: insluitend was, skrop, magnetiese skeiding en flotasie.
Chemiese suiwering: die gebruik van sure (soos soutsuur, swaelsuur, salpetersuur, hidrofluoriensuur en oksaalsuur) vir suur loging om onsuiwerhede te verwyder.
Ultrafiene slyp: die gebruik van roerfabriek, vibrasiefabriek, lugmaal en ander toerusting vir ultrafienmaal.
Sferifiseringsproses: insluitend hoëfrekwensie plasma -smeltmetode, GS -plasmamemetmetode, ARC -metode, ens., Om sferiese kwartspoeier te produseer.
Verwerkingstegnologie:
Kwartspoeier deur magnetiese skeiding, flotasie.
Ultrafien maal tot mikronvlak.
Pickling verwyder onsuiwerhede.
Skoonmaak van suur verwyder.
Druk op filtrasie -uitdroging.
Droog.
Nadat u opgebreek het om die finale produk te kry.
Die voorbereidingstegnologie van ultra-fyn kwartspoeier met 'n hoë suiwerheid verbeter steeds, veral in die toepassing van elektroniese verpakkingsmateriaal, en die vereistes vir vullers word hoër en hoër, wat nie net ultra-fyn en hoë suiwerheid benodig nie, maar ook sferisiteit vereis om die werkverrigting van verpakkingsmateriaal te verbeter. Met die ontwikkeling van die elektroniese industrie groei die vraag na sferiese kwartspoeiermark ook
.
Projek
Verwante aanwysers
Verduidelik
Suiwerheid
SiO2 -inhoud
Opsioneel binne 98% -99,9%
Ion onreinheid
Na+, C1, ens
Kan so laag wees as 3ppm of onder
Deeltjiegrootte verspreiding
D50
Opsioneel binne 0.5um-20um
D100
Kan so laag as 10um of minder wees
Deeltjiegrootte verspreiding
Aanpassings kan aangebring word op grond van tipiese verspreidings volgens klante se vereistes, insluitend multimodale verspreidings
Voorkomskenmerke
Witheid, deursigtigheid, ens
Witheid kan tussen 60-98 grade gekies word, wat die verspreiding van 'n hoë deursigtigheid bied
Oppervlakkenmerke
Hidrofobisiteit, olie -absorpsiewaarde, ens
Verskillende behandelingsagente kan volgens die vereistes van kliënte gekies word, en buigsame aanpassing is beskikbaar
Emai: Sales@silic-st.com Whatsapp: +86 18168153275 Voeg by: No. 8-2, Zhenxing South Road, High-Tech Development Zone, Donghai County, Jiangsu Provinsie
