La poudre de quartz ultrafine haute pureté est une sorte de matériau de poudre en quartz naturel de haute qualité par un processus spécial, qui a une pureté extrêmement élevée et une distribution de taille de particules contrôlable. Ce matériau est largement utilisé dans de nombreux champs de haute technologie en raison de son excellente stabilité chimique, de sa résistance à l'acide et à l'alcali, une grande surface spécifique, une structure de vide développée, une résistance à haute température et une bonne isolation.
La teneur élevée en pureté, silice (SiO2) peut atteindre plus de 99,99%.
Contrôle de la taille des particules, taille typique des particules D50 dans la plage de 3 à 10 microns.
Blancheur supérieur à 94, avec une très bonne couleur.
La conductivité thermique est meilleure que la poudre de silicium.
Stabilité chimique, résistance à l'acide et aux alcalins.
Le contenu total des impuretés est contrôlé dans les 50 ppm, qui appartient au niveau de premier plan national et à l'International Advanced
.
Champ d'application:
Matériaux d'emballage électronique: utilisés dans l'emballage de circuit intégré des semi-conducteurs, fournissant des fonctions de support, de protection, de dissipation thermique, d'isolation et d'interconnexion.
Encre électronique: Utilisé dans l'industrie de l'imprimerie électronique.
Fibre optique: Utilisé pour fabriquer des fibres optiques.
Céramique de précision: utilisé pour fabriquer des céramiques haute performance.
Optique: pour le broyage de précision.
Rubber silicone: En tant que remplissage, améliorez la résistance à l'usure et la résistance aux intempéries.
Verre optique: pour la fabrication de verre optique de haute qualité.
Céramique industrielle: Utilisé pour fabriquer des produits en céramique haute performance.
Méthode de préparation:
Purification physique: y compris le lavage, le nettoyage, la séparation magnétique et la flottation.
Purification chimique: L'utilisation d'acides (comme l'acide chlorhydrique, l'acide sulfurique, l'acide nitrique, l'acide hydrofluorique et l'acide oxalique) pour la lixiviation d'acide pour éliminer les impuretés.
Broyage ultrafine: l'utilisation de l'usine d'agitation, de l'usine de vibrations, du broyage d'air et d'autres équipements pour le broyage ultrafine.
Processus de sphérification: y compris la méthode de fusion du plasma à haute fréquence, la méthode de fusion du plasma CC, la méthode d'arc, etc., pour produire de la poudre de quartz sphérique.
Technologie de traitement:
Poudre de quartz par séparation magnétique, flottation.
Broyage ultrafine au niveau du micron.
Le décapage supprime les impuretés.
Nettoyage d'élimination de l'acide.
Déshydratation de la filtration de la presse.
Sec.
Après avoir rompu pour obtenir le produit fini.
La technologie de préparation de la poudre de quartz ultra-fin de haute pureté continue de s'améliorer, en particulier dans l'application de matériaux d'emballage électronique, et les exigences pour les charges deviennent de plus en plus élevées, nécessitant non seulement un ultra-fin et de haute pureté, mais nécessitant également une sphéricité pour améliorer les performances des matériaux d'emballage. Avec le développement de l'industrie de l'électronique, la demande de marché de poudre de quartz sphérique augmente également
.
Projet
Indicateurs connexes
Expliquer
Pureté
Contenu SIO2
Facultatif dans les 98% -99,9%
Impureté ionique
Na +, C1, etc.
Peut être aussi faible que 3 ppm ou moins
Distribution de la taille des particules
D50
Facultatif dans le 0,5UM-20UM
D100
Peut être aussi bas que 10UM ou moins
Distribution de la taille des particules
Des ajustements peuvent être effectués sur la base de distributions typiques en fonction des exigences du client, y compris les distributions multimodales
Caractéristiques d'apparence
Blancheur, transparence, etc.
La blancheur peut être sélectionnée entre 60 et 98 degrés, offrant une distribution élevée de produits de transparence
Caractéristiques de surface
Hydrophobicité, valeur d'absorption d'huile, etc.
Différents agents de traitement peuvent être sélectionnés en fonction des exigences des clients, et une personnalisation flexible est disponible
Projet
Unité
Valeurs typiques
Apparence
/
Poudre blanche
Densité
kg / m³
2.65x103
Dureté mohs
/
2
Constante diélectrique
er
4.65
Perte diélectrique
lgδ
0.0018
Coefficient d'extension linéaire
1 / k
14x10-6
Conductivité thermique
W / k · m
12.6
Indice de réfraction
/
1.54
Caractéristiques:
La teneur élevée en pureté, silice (SiO2) peut atteindre plus de 99,99%.
Contrôle de la taille des particules, taille typique des particules D50 dans la plage de 3 à 10 microns.
Blancheur supérieur à 94, avec une très bonne couleur.
La conductivité thermique est meilleure que la poudre de silicium.
Stabilité chimique, résistance à l'acide et aux alcalins.
Le contenu total des impuretés est contrôlé dans les 50 ppm, qui appartient au niveau de premier plan national et à l'International Advanced
.
Champ d'application:
Matériaux d'emballage électronique: utilisés dans l'emballage de circuit intégré des semi-conducteurs, fournissant des fonctions de support, de protection, de dissipation thermique, d'isolation et d'interconnexion.
Encre électronique: Utilisé dans l'industrie de l'imprimerie électronique.
Fibre optique: Utilisé pour fabriquer des fibres optiques.
Céramique de précision: utilisé pour fabriquer des céramiques haute performance.
Optique: pour le broyage de précision.
Rubber silicone: En tant que remplissage, améliorez la résistance à l'usure et la résistance aux intempéries.
Verre optique: pour la fabrication de verre optique de haute qualité.
Céramique industrielle: Utilisé pour fabriquer des produits en céramique haute performance.
Méthode de préparation:
Purification physique: y compris le lavage, le nettoyage, la séparation magnétique et la flottation.
Purification chimique: L'utilisation d'acides (comme l'acide chlorhydrique, l'acide sulfurique, l'acide nitrique, l'acide hydrofluorique et l'acide oxalique) pour la lixiviation d'acide pour éliminer les impuretés.
Broyage ultrafine: l'utilisation de l'usine d'agitation, de l'usine de vibrations, du broyage d'air et d'autres équipements pour le broyage ultrafine.
Processus de sphérification: y compris la méthode de fusion du plasma à haute fréquence, la méthode de fusion du plasma CC, la méthode d'arc, etc., pour produire de la poudre de quartz sphérique.
Technologie de traitement:
Poudre de quartz par séparation magnétique, flottation.
Broyage ultrafine au niveau du micron.
Le décapage supprime les impuretés.
Nettoyage d'élimination de l'acide.
Déshydratation de la filtration de la presse.
Sec.
Après avoir rompu pour obtenir le produit fini.
La technologie de préparation de la poudre de quartz ultra-fin de haute pureté continue de s'améliorer, en particulier dans l'application de matériaux d'emballage électronique, et les exigences pour les charges deviennent de plus en plus élevées, nécessitant non seulement un ultra-fin et de haute pureté, mais nécessitant également une sphéricité pour améliorer les performances des matériaux d'emballage. Avec le développement de l'industrie de l'électronique, la demande de marché de poudre de quartz sphérique augmente également
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Projet
Indicateurs connexes
Expliquer
Pureté
Contenu SIO2
Facultatif dans les 98% -99,9%
Impureté ionique
Na +, C1, etc.
Peut être aussi faible que 3 ppm ou moins
Distribution de la taille des particules
D50
Facultatif dans le 0,5UM-20UM
D100
Peut être aussi bas que 10UM ou moins
Distribution de la taille des particules
Des ajustements peuvent être effectués sur la base de distributions typiques en fonction des exigences du client, y compris les distributions multimodales
Caractéristiques d'apparence
Blancheur, transparence, etc.
La blancheur peut être sélectionnée entre 60 et 98 degrés, offrant une distribution élevée de produits de transparence
Caractéristiques de surface
Hydrophobicité, valeur d'absorption d'huile, etc.
Différents agents de traitement peuvent être sélectionnés en fonction des exigences des clients, et une personnalisation flexible est disponible
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