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Pó de sílica fundida de alta pureza para semicondutores
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Pó de sílica fundida de alta pureza para semicondutores

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Este produto é um pó de sílica fundida de alta pureza projetada especificamente para indústrias eletrônicas avançadas, como semicondutores e circuitos integrados. Fabricado a partir de matérias-primas de quartzo de alta pureza por meio de fusão de alta temperatura, moagem ultrafina e processos de classificação de precisão, apresenta uma pureza de ≥99%, distribuição controlável de tamanho de partícula (D50 0,5μm-50μm, habilitável), coeficiente de expansão térmica, excelente propriedade de isolamento, propriedades de isolamento e superior. É amplamente utilizado em aplicações críticas, como embalagens de semicondutores, substratos de cerâmica e adesivos eletrônicos.
Disponibilidade:
Quantidade:

Visão geral do produto
041004Este produto é um pó de sílica fundida de alta pureza projetada especificamente para indústrias eletrônicas avançadas, como semicondutores e circuitos integrados. Fabricado a partir de matérias-primas de quartzo de alta pureza por meio de fusão de alta temperatura, moagem ultrafina e processos de classificação de precisão, apresenta uma pureza de ≥99%, distribuição controlável de tamanho de partícula (D50 0,5μm-50μm, habilitável), coeficiente de expansão térmica, excelente propriedade de isolamento, propriedades de isolamento e superior. É amplamente utilizado em aplicações críticas, como embalagens de semicondutores, substratos de cerâmica e adesivos eletrônicos.


Parâmetros do produto

do item Especificação
Pureza ≥99%
Tamanho de partícula (D50) 0,5μm-50μm (personalizável)
Densidade 2.2 g/cm³
Ponto de fusão ≈1700ºC
Coeficiente de expansão térmica 0,5 × 10 -6/ºC (20-300ºC)
Constante dielétrica 3,8-4.2 (1MHz)
Teor de umidade ≤0,1%


Recursos do produto


  • Pureza ultra-alta : níveis de impureza extremamente baixos (Na, K, Fe e outros íons metálicos ≤50ppm), atendendo a requisitos rigorosos de processo de semicondutores.

  • Controle preciso do tamanho de partícula : faixa D50 personalizável de 0,5μm-50μm através da tecnologia de classificação avançada para se adequar a várias aplicações.

  • Desempenho estável : baixa expansão térmica e alto isolamento garantem confiabilidade em ambientes de alta temperatura e alta frequência.

  • Excelente dispersão : tratada na superfície para compatibilidade superior com resinas epóxi, silicone e outros substratos, impedindo a aglomeração.


Aplicações


  • Embalagem de semicondutores : usada como enchimento em compostos de moldagem epóxi (EMC) para melhorar a condutividade térmica e a resistência mecânica.

  • Substratos eletrônicos : atua como uma fase de reforço em substratos cerâmicos (por exemplo, ALN, AL 2O 3), reduzindo as temperaturas de sinterização.

  • Adesivos/revestimentos : enchimento funcional em adesivos isolantes de alta condutividade térmica e revestimentos antiestáticos.

  • Cerâmica de precisão : aditivo para dispositivos de alta frequência e vidro óptico.


Embalagem e armazenamento


  • Embalagem : 25 kg/bolsa, ou personalizada por requisitos do cliente.

  • Armazenamento : Armazene em um local frio e seco para evitar a absorção de umidade. Vida de validade recomendada: 12 meses.


Garantia de qualidade


  • Consegue com os padrões Semi e ROHS, com relatórios de teste fornecidos.

  • Suporta testes de amostra e soluções técnicas personalizadas para garantir a integração perfeita com seus processos.

Entre em contato conosco para amostras ou consulta técnica!

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