Produkter

Du är här: Hem » Produkter » Fused Silica Pulver » Fused Silica Pulver med hög renhet för halvledare
Fused Silica Pulver med hög renhet för halvledare
Fused Silica Pulver med hög renhet för halvledare Fused Silica Pulver med hög renhet för halvledare

belastning

Fused Silica Pulver med hög renhet för halvledare

Dela till:
Facebook delningsknapp
twitter delningsknapp
linjedelningsknapp
wechat delningsknapp
linkedin delningsknapp
pinterest delningsknapp
whatsapp delningsknapp
dela den här delningsknappen
Denna produkt är ett högrent smält kiseldioxidpulver speciellt designat för avancerad elektronikindustri som halvledare och integrerade kretsar. Tillverkad av kvartsråmaterial med hög renhet genom högtemperatursmältning, ultrafinslipning och precisionsklassificeringsprocesser, har den en renhet på ≥99%, kontrollerbar partikelstorleksfördelning (D50 0,5 μm-50 μm, anpassningsbar), låg värmeutvidgningskoefficient, utmärkta kemiska egenskaper och utmärkta isoleringsegenskaper. Det används ofta i kritiska applikationer som halvledarförpackningar, keramiska substrat och elektroniska lim.
Tillgänglighet:
Kvantitet:

Produktöversikt
041004Den här produkten är ett smält kiselpulver av hög renhet som är speciellt designat för avancerad elektronikindustri som halvledare och integrerade kretsar. Tillverkad av kvartsråmaterial med hög renhet genom högtemperatursmältning, ultrafinslipning och precisionsklassificeringsprocesser, har den en renhet på ≥99%, kontrollerbar partikelstorleksfördelning (D50 0,5 μm-50 μm, anpassningsbar), låg värmeutvidgningskoefficient, utmärkta kemiska egenskaper och utmärkta isoleringsegenskaper. Det används ofta i kritiska applikationer som halvledarförpackningar, keramiska substrat och elektroniska lim.


Produktparametrar

Artikelspecifikation
Renhet ≥99 %
Partikelstorlek (D50) 0,5 μm-50 μm (anpassningsbar)
Densitet 2,2 g/cm^3;
Smältpunkt ≈1700ºC
Termisk expansionskoefficient 0,5×10 -6/ºC (20-300ºC)
Dielektrisk konstant 3,8-4,2 (1MHz)
Fukthalt ≤0,1 %


Produktegenskaper


  • Ultrahög renhet : Extremt låga föroreningsnivåer (Na, K, Fe och andra metalljoner ≤50 ppm), uppfyller stränga krav på halvledarprocesser.

  • Exakt kontroll av partikelstorlek : Anpassningsbar D50-serie på 0,5 μm-50 μm genom avancerad klassificeringsteknik för att passa olika applikationer.

  • Stabil prestanda : Låg termisk expansion och hög isolering säkerställer tillförlitlighet i högtemperatur- och högfrekventa miljöer.

  • Utmärkt dispersion : Ytbehandlad för överlägsen kompatibilitet med epoxihartser, silikon och andra substrat, vilket förhindrar agglomerering.


Ansökningar


  • Halvledarförpackning : Används som fyllmedel i epoxiformmassa (EMC) för att förbättra värmeledningsförmågan och mekanisk styrka.

  • Elektroniska substrat : Fungerar som en förstärkande fas i keramiska substrat (t.ex. AlN, Al 2O 3), vilket minskar sintringstemperaturerna.

  • Lim/Beläggningar : Funktionellt fyllmedel i isolerande lim med hög värmeledningsförmåga och antistatiska beläggningar.

  • Precision Keramik : Tillsats för högfrekventa enheter och optiskt glas.


Förpackning & Förvaring


  • Förpackning : 25 kg/påse, eller anpassad efter kundens önskemål.

  • Förvaring : Förvaras på en sval, torr plats för att undvika fuktupptagning. Rekommenderad hållbarhet: 12 månader.


Kvalitetssäkring


  • Uppfyller SEMI- och RoHS-standarder, med testrapporter.

  • Stöder provtester och skräddarsydda tekniska lösningar för att säkerställa sömlös integration med dina processer.

Kontakta oss för prover eller teknisk konsultation!

1d23f7996729dafa8e35afec1cbb4f1

Bästa lösning 4   Bästa lösning-1    Bästa lösningen 2

+86 18936720888
+86-189-3672-0888

KONTAKTA OSS

Tel: +86-189-3672-0888
Emai: sales@silic�st.com
WhatsApp: +86 18936720888
Lägg till: nr 8-2, Zhenxing South Road, High-tech Development Zone, Donghai County, Jiangsu-provinsen

SNABLÄNKAR

PRODUKTKATEGORI

TA KONTAKT
Copyright © 2024 Jiangsu Shengtian New Materials Co., Ltd. Alla rättigheter reserverade.| Webbplatskarta Sekretesspolicy