מוצר זה מיוצר באמצעות התכה בטמפרטורה גבוהה, טחינה עדינה במיוחד וסיווג מדויק של חול קוורץ בטוהר גבוה. עם טוהר של ≥99%, מקדם התפשטות תרמית נמוך, בידוד מעולה ויציבות כימית, הוא תוכנן במיוחד עבור יישומים מתקדמים באלקטרוניקה, מוליכים למחצה, תעשיות פוטו וולטאיות ותחומים אחרים, ועומד בדרישות מחמירות לפיזור גודל חלקיקים וטוהר בחומרים מדויקים.
מוצר זה מיוצר באמצעות התכה בטמפרטורה גבוהה, טחינה עדינה במיוחד וסיווג מדויק של חול קוורץ בטוהר גבוה. עם טוהר של ≥99%, מקדם התפשטות תרמית נמוך, בידוד מעולה ויציבות כימית, הוא תוכנן במיוחד עבור יישומים מתקדמים באלקטרוניקה, מוליכים למחצה, תעשיות פוטו וולטאיות ותחומים אחרים, ועומד בדרישות מחמירות לפיזור גודל חלקיקים וטוהר בחומרים מדויקים.
יתרונות
הליבה טוהר גבוה במיוחד : תכולת SiO 2 ≥99%, זיהומי מתכות כבדות <10ppm, תואמות לתקני חומר בדרגה אלקטרונית בקרת גודל חלקיקים מדויקת : טווח D50 הניתן להתאמה אישית של 0.5μm-50μm, תומך בדירוג הפצה צרה (יחס ביצועים D90/D10 זמין) הסתגלות ≤0.01 cph/cm², קבוע דיאלקטרי 3.8@1MHz, התנגדות נפח >10 16 Ω·cm יכולת תהליך : צורות כדוריות/זוויתיות זמינות, יכולת זרימה מעולה, מתאימה לריסוס, עציץ, הדפסת תלת מימד ותהליכים אחרים
