| Kiasi: | |
|---|---|
Poda yetu ya High Purity Spherical Silica Powder ni kichujio cha hali ya juu kinachofanya kazi kinachotengenezwa kupitia teknolojia ya hali ya juu ya muunganisho wa mwali, chenye udhibiti mkali wa mchakato ili kufikia usafi wa hali ya juu wa SiO₂ wa ≥99.6% na muundo wa duara unaokaribia kabisa na duara ≥97%. Kwa safu ya ukubwa wa chembe inayoweza kubinafsishwa kwa usahihi (D50 0.5-50μm), poda hii ya silika ya duara ya 99.6% hutoa unyevu wa kipekee, mgawo wa upanuzi wa kiwango cha chini cha mafuta, na insulation bora ya umeme, na kuifanya kuwa nyenzo muhimu kwa utengenezaji wa hali ya juu wa viwandani na utendakazi wa mchanganyiko wa utendaji wa juu. Iliyoundwa kwa ajili ya wateja wa viwandani wenye mahitaji madhubuti ya utendakazi, kichujio chetu cha silika duara kwa halvledare hupitia majaribio ya bechi kamili na vichanganuzi vya saizi ya chembe ya leza ya Malvern, huku kila shehena ikiambatana na Cheti cha Uchambuzi (COA) ili kuhakikisha utii wa vigezo thabiti.
Kigezo |
Vipimo vya Kawaida |
SiO₂ Usafi |
≥99.6% |
Ukubwa wa Chembe (D50) |
0.5μm-50μm (inaweza kubinafsishwa kikamilifu) |
Sphericity |
≥97% |
Weupe |
≥92% |
Msongamano |
2.65 g/cm³ |
Ugumu wa Mohs |
7 |
Upinzani wa Kiasi |
>10⊃1;⁶ Ω·cm |
Mgawo wa Upanuzi wa Joto |
0.5×10⁻⁶ /K |
Muundo sare wa duara wa poda yetu ya silika duara ya juu hupunguza msuguano baina ya chembe, kuwezesha ujazo wa hadi 80%+ katika resini na mifumo ya plastiki huku ukipunguza kwa kiasi kikubwa mnato mchanganyiko. Hii inaboresha utendakazi wa usindikaji na kupunguza gharama za uzalishaji kwa wateja wa utengenezaji.
Poda hii ya silika ya umbo la mwali huongeza ugumu, upinzani wa uvaaji, na nguvu ya athari ya nyenzo zenye mchanganyiko, kwa asidi ya kipekee na ukinzani wa kutu ya alkali. Mgawo wake wa upanuzi wa kiwango cha chini cha mafuta huhakikisha uthabiti wa hali hata katika kushuka kwa joto kali, kufaa kwa mazingira magumu ya viwanda.
Kwa upinzani wa kiasi cha juu zaidi, poda yetu ya silika ya duara kwa uwekaji wa kielektroniki hutoa insulation bora na upotezaji wa chini wa dielectric, ikidhi kikamilifu mahitaji madhubuti ya utumizi wa umeme wa juu-voltage na masafa ya juu.
Tunatoa upangaji wa ukubwa wa chembe kitaalamu na urekebishaji wa uso (matibabu ya wakala wa kuunganisha silane) ili kurekebisha poda yetu ya silika ya duara ya 0.5-50μm kulingana na mahitaji yako mahususi ya uundaji na matumizi.
Inatumika sana katika vifungashio vya chip za IC, misombo ya ukingo wa epoxy (EMC), na vichungi vya laminate iliyofunikwa na shaba (CCL), hutumika kama nyenzo ya msingi kwa utengenezaji wa hali ya juu wa kielektroniki.
Hupunguza hasara ya dielectric katika substrates za juu-frequency, kuhakikisha upitishaji wa mawimbi thabiti kwa vifaa vya mawasiliano vya 5G.
Huongeza upinzani wa uvaaji, upinzani wa hali ya hewa, na mng'ao wa uso wa mipako ya hali ya juu kwa matumizi ya viwandani na magari.
Hufanya kazi kama usaidizi wa kunyoosha kwa kauri za usahihi ili kuboresha msongamano, na huongeza nguvu ya rheolojia na mitambo ya vibandiko na viambatisho vya hali ya juu.
Kiwango chetu cha chini cha agizo la uzalishaji kwa wingi ni tani 1, ilhali sampuli zisizolipishwa za utayarishaji zinapatikana kwa wanunuzi wa viwandani ili kuthibitisha utendakazi kabla ya maagizo rasmi.
Ndiyo. Tunaauni ubinafsishaji kamili wa usambazaji wa saizi ya chembe (D50 0.5-50μm), pamoja na urekebishaji wa kitaalamu wa uso kupitia matibabu ya wakala wa kuunganisha silane ili kuendana na mahitaji yako ya uundaji.
Kituo chetu cha uzalishaji kinatii kikamilifu mfumo wa usimamizi wa ubora wa ISO 9001, na bidhaa zote zimepita majaribio ya SGS, yanayokidhi viwango vya ulinzi wa mazingira vya ROHS vya EU.
Muda wa kawaida wa kuongoza ni siku 15-30, ambazo zinaweza kubadilishwa kulingana na kiasi cha agizo lako na mahitaji ya kubinafsisha.
