Nagy tisztaságú optikai minőségű olvasztott szilícium-dioxid mikropor
Megosztás:
Ezt a terméket nagy tisztaságú kvarchomokból állítják elő magas hőmérsékletű fúziós eljárással. Magas törésmutatója (1,458@589nm), alacsony hőtágulási együtthatója (0,5×10-6/ºC) és kiváló kémiai stabilitása. Kifejezetten csúcskategóriás optikai, elektronikai és speciális anyagok felhasználására kifejlesztett részecskeméret-eloszlása testreszabható (D50 0,5μm-50μm), hogy megfeleljen a precíziós alkalmazási követelményeknek.
Ezt a terméket nagy tisztaságú kvarchomokból állítják elő magas hőmérsékletű fúziós eljárással. Magas törésmutatója (1,458@589 nm), alacsony hőtágulási együtthatója (0,5 × 10 -6/ºC) és kiváló kémiai stabilitással rendelkezik. Kifejezetten csúcskategóriás optikai, elektronikai és speciális anyagok felhasználására kifejlesztett részecskeméret-eloszlása testreszabható (D50 0,5μm-50μm), hogy megfeleljen a precíziós alkalmazási követelményeknek.
Kulcsparaméterek
Paraméter
Műszaki specifikációk
Tisztaság
≥99% (mért érték 99,2%-99,8%)
Részecskeméret
D50 0,5-50 μm (egyedi osztályozás elérhető)
Törésmutató
1,458±0,002 (nátriumfény 589 nm)
Sűrűség
2,2 g/cm³
Mohs-keménység
7
Dielektromos állandó
3,8–4,1 (1 MHz)
Nedvességtartalom
≤0,1%
Veszteség gyújtásnál
≤0,5% (1000ºC × 2h)
Öt alapvető előny
Precíziós osztályozási technológia – A többlépcsős légáramlás-osztályozási rendszer ±0,1 μm-es részecskeméret-szabályozási pontosságot tesz lehetővé.
Ultra-High Purity Assurance – Teljesen zárt kvarc olvasztó gyártósor, <50ppm fémszennyeződés-tartalommal.
Kiemelkedő optikai teljesítmény – Harmadik fél által tesztelt törésmutató-ingadozás <0,2%, kiváló tételenkénti konzisztencia.
